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在大家处于低迷的时期，中科院传出来了一则消息，可以说是让人振奋不已。那就是5nm的激光光刻技术，现在已经取得了重大的突破。这让我们很多人都以为中科院在如此短的时间里面，就已经攻破了5nm的相关技术，成功的研发，出了光刻机。要是这样想，可以说是对于中科院是特别的信任，这一点是值得肯定和自豪的，但是实际情况呢，就是这所谓的激光光刻技术和光刻机是不同的。
完全不是一码子事，所以是不能够放在一起做比较的一点，那就是中科院所取得的成就确实是熠熠生辉的，这也确实是力推着我们的研发进程。光刻机的研发还有着很多的困难需要去克服。而人们刻板印象里面，很容易会把5nm的激光光刻技术和光刻机相搭钩。我们中国现有的光刻机是28nm的，完全能够生产出14nm的芯片。
但是要想生产出5nm的芯片，还有着很长的一段路要走，并且中科院也已经做出了一系列的预测，按照如今的发展状况，要想实现5nm的量产，起码也得一二十年呢。能够生产出最为先进的光刻机，就是ASML。而我们中国的研发是出自于上海的微电子。虽然由28m到5nm，中间的瓶颈还有很多，但是我们中国的科研工作者是绝对不会放弃的。
目前所有的进展都是一种好的迹象，也都是好的兆头，在这个好的兆头带领之下，我们一定会齐头并进向前赶上。所有的问题都将不是问题。对于我们中国的科研工作者，我们是完全没有理由去不相信他们，并且很多的工程在中科院的带领之下，都已经取得了重大的突破和进展。所有的问题和所有的困难都是难不倒我们中国的科研工作者的，这一点我们是毋庸置疑。
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