光刻机本来是一个非常冷门的设备，其冷门程度应该比通信设备的基站更甚，但是随着芯片的重要性愈发明显，尤其是芯片开始出现先进工艺，而所需要用到的EUV光刻机，目前只有 荷兰光刻机巨头ASML可以制造，这让光刻机和ASML突然开始在全球爆红，成为了关注的焦点。
尤其是当年我们中企在已经订购了EUV光刻机的情况下，却突然遭到禁止，这更让国人对EUV光刻机有了一个新的认识，当芯片的制造工艺进入到7纳米时，那么EUV光刻机虽然不是一个必须的选择，但是确实更好的选择，例如像台积电、三星等芯片代工厂，在第二代7纳米工艺上，就开始采用了EUV光刻机，虽然芯片工艺没有改变，但是芯片的集成度获得了提升，再次提升了芯片的性能。
日前，俄罗斯科学院宣布，在2028年前拥有自主知识产权的可制造出7nm芯片的光刻机。
近年来由于众所周知的原因，俄罗斯高科技产业遭遇严重困难，一些西方科技巨头包括英特尔、AMD和英特尔等芯片厂商纷纷撤出俄罗斯市场，不再提供产品和服务，这正是俄罗斯这次下定决心的原因。
10 月 22 日消息，据俄罗斯下诺夫哥罗德策略发展机构公文，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所(IPF RAS) 正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用 7nm 生产芯片，可于 2028 年全面投产。
俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示，全球光刻机领导者 ASML 近 20 年来一直致力于 EUV 曝光机，目标是让世界顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。但俄罗斯并不需要，只要根据俄罗斯国内的需求向前推进即可。
从其他外媒的评价来看，俄罗斯的想法似乎太过天真，毕竟想在 6 年内仅凭自己研发出可媲美 ASML十年积淀的光刻技术实在是有点难以令人相信，且晶圆厂并非光靠光刻机就可生产出芯片，还需要许多外围设备，而俄罗斯并不满足独立生产这些设备的条件。
能够使用 7nm 级工艺技术处理晶圆的现代光刻机是一种高度复杂的设备，它涉及高性能光源、精密光学和精确计量，等很多关键部件。然而，作为俄罗斯领先的应用物理大学，IAP 相信它可以在相对较短的时间内开发出这样一个工具。
该工具将与 ASML 或尼康等公司生产的光刻机有所不同。例如，IAP 计划使用大于 600W 的光源（总功率，不是中焦功率），曝光波长为 11.3nm（EUV 波长为 13.5nm，DUV波长
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